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行業新聞
離子源電源的應用及原理
時間: 2024-5-17 瀏覽次數:100

離子束輔助鍍膜是近些年出現的新技術,在磁場和電場的作用下,閉環遷移的電子與氣體碰撞放電形成離子,電場將離子引出加速發射,離子帶有能量,具有能量的離子與電子聚集形成等離子體。

因普通物理清洗、烘干方式無法完全去除被鍍工件表面污染物,而進行鍍膜前,徹底的清潔處理至關重要,則使用該技術,借助等離子體深度清洗、轟擊、刻蝕被鍍工件,清除表面結合力弱的分子,并活化基體,從而提高膜層結合力,改善晶體結構。

因其成膜原子能量低、膜層附著力差但沉積速率快、鍍制膜系廣泛、可優化薄膜結構改善薄膜生長等特點,該技術一般不用于鍍制膜層,只用于清洗、轟擊、輔助沉積等。

在實際中,我們通過離子源電源實現該技術,除上述特點外,離子源電源還能提升氣體離化率和活化度,與金屬離子高效結合。重復性及一致性高,適用于工業化批量生產。因其薄膜光學特性還可用于光學、半導體等領域。

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派立特生產的離子源電源采用進口IGBT搭配先進的MCU,PWM脈寬調制技術,為客戶提供了大范圍連續平穩可調的電壓、電流、占空比,控制精度高。理性的電壓陡降特性能夠有效地抑制離子源表面的打火現象。極佳的負載匹配能力,既能保證清洗工藝的穩定性,還能提高清洗速度。

此外,我司的離子源電源為脈沖輸出,標準電源電壓峰值有2000V3000V可選。針對寬縫、窄縫不同工藝要求,我們為客戶提供了恒流、恒壓不同工作模式的電源。通訊接口為本地控制、模擬量和數字量三種可選,操作更加便捷。當然,美觀、輕巧、高穩定性等特點,一直是派立特對電源的基礎要求,期待您的咨詢。

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