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直流濺射電源采用國外最新微電子PWM控制技術，擁有靈敏的過流（滅弧）保護，內置電子電抗負載匹配性能優異。同時本電源穩定性能極佳，被廣泛應用在太陽能真空集熱管鍍膜設備、鋁鏡磁控濺射連續線、陶瓷多弧磁控濺射鍍膜設備、ITO氧化銦錫濺射鍍膜設備等諸多領域。
直流磁控濺射電源主要性能優勢：
1.全球先進的PWM控制技術
2.高精度恒流控制,膜層更均勻
3.靈敏的過流(滅弧)保護
4.負載匹配性能優異
5.超穩定機芯結構
6.超小體積，美觀又實用的空間設計
Direct Current (DC) Magnetron Sputtering Power Supply main performance advantages:
1. World-leading PWM (Pulse Width Modulation) control technology.
2. High-precision constant current control for a more uniform film layer.
3. Sensitive overcurrent (arc extinguishing) protection.
4. Exceptional load matching performance.
5. Ultra-stable core structure.
6. Compact size with a beautiful and practical spatial design.
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